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基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时，其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其掩盖才能较好。真空电镀厂基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，PVD电镀报价，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，真空镀膜厂采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，汕尾PVD电镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。

表离子镀的种类及其特点

直流放电法  电阻  辉光放电dc:0.1kv～5kv  惰性气体1pa，0.25ma/cm2  结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！

耐热，润滑等镀件

弧光放电法  电子束、灯丝  弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa  离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量  切削工具、金属装饰等镀件

空心阴极法  空心阴极  等离子体电子束dc:0v～200v

惰性气体或反应气体  离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层  装饰、耐磨等镀件

调频激励法  电阻、电子束  射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv

惰性气体或反应气体  离化率高，PVD电镀公司，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差  光学、半导体等镀件

电场蒸发法  电子束  二次电子dc:1kv～5kv

与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子qiang蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），PVD电镀厂家在哪，这些方法统称物理气相沉积，简称为PVD。与之对应的化学气相沉积，简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作 用，而统称为离子镀膜。

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